■ 刊行論文
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原著
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1.
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石神朋広, 石井淳一†, 長谷川匡俊＊†：
ポリイミドワニスからのキャスト製膜により誘起される透明ポリイミドの面内配向（８）低熱膨張性透明プラスチック基板への応用.
ポリイミド・芳香族高分子 最近の進歩2012
：142-145
, 2012
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2.
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小林尚貴, 石井淳一†, 長谷川匡俊＊†：
低熱膨張・熱可塑性ポリイミド（３）.
ポリイミド・芳香族高分子 最近の進歩2012
：146-149
, 2012
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3.
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進藤 和也, 石井 淳一†, 長谷川 匡俊＊†, 阿部 富也：
高濃度ワニスを与えるポリイミド（４）.
ポリイミド・芳香族高分子 最近の進歩2012
：150-153
, 2012
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4.
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堀 敦史, 石井 淳一†, 長谷川 匡俊＊†：
低熱膨張・低吸水性ポリエステルイミド（３７）．更なる低弾性率化の方策.
ポリイミド・芳香族高分子 最近の進歩2012
：154-157
, 2012
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5.
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真坂亮介, 石井淳一†, 長谷川匡俊＊†：
透明ポリイミドの複屈折制御（１２）．リタデーションの低波長分散特性.
ポリイミド・芳香族高分子 最近の進歩2012
：158-161
, 2012
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6.
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横塚英征、石井 淳一＊†, 長谷川匡俊†：
超低弾性率ポジ型感光性ポリベンゾオキサゾール（３）.
ポリイミド・芳香族高分子 最近の進歩2012
：162-165
, 2012
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7.
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Hasegawa M＊†, Hirano D, Fujii M, Haga M, Takezawa E, Yamaguchi S, Ishikawa A, Kagayama T：
Solution-Processable Colorless Polyimides Derived from Hydrogenated Pyromellitic Dianhydride with Controlled Steric Structure.
Journal of Polymer Science, Part A
51
(3)
：575
-592
, 2013
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■ 学会発表
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国内学会
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1.
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◎横塚英征, 石井淳一†, 長谷川匡俊†：
超低弾性率感光性ポリベンゾオキサゾール（５）ポジ型パターン形成能改善の検討.
第20回日本ポリイミド・芳香族系高分子会議,
相模原,
2012/12
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2.
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◎小杉充哉, 石井淳一†, 長谷川匡俊†：
低弾性率ポリアゾメチン（３）.
第20回日本ポリイミド・芳香族系高分子会議,
相模原,
2012/12
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3.
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◎小林尚貴, 石井淳一†, 長谷川匡俊†：
低熱膨張・熱可塑性ポリイミド（６）.
第20回日本ポリイミド・芳香族系高分子会議,
相模原,
2012/12
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4.
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◎新藤奈穂美, 石井淳一†, 長谷川匡俊†, 須永友康：
熱可塑性透明ポリイミド（３）熱・紫外線光安定性.
第20回日本ポリイミド・芳香族系高分子会議,
相模原,
2012/12
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5.
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◎進藤和也, 石井淳一†, 長谷川匡俊†, 本田祐樹, 牛渡剛真, 阿部富也：
高濃度ワニスを与えるポリイミド（６）.
第20回日本ポリイミド・芳香族系高分子会議,
相模原,
2012/12
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6.
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◎堀 敦史, 石井淳一†, 長谷川匡俊†：
低熱膨張・低吸水性ポリエステルイミド（４１）更なる低弾性率化の方策.
第20回日本ポリイミド・芳香族系高分子会議,
相模原,
2012/12
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7.
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◎石井淳一†：
回路基板用ポリイミドの変遷と開発動向.
第20回日本ポリイミド・芳香族系高分子会議 (2012.12.7, @JAXA, 相模原),
相模原,
2012/12
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8.
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◎横塚英征, 石井淳一†, 長谷川匡俊†：
超低弾性率感光性ポリベンゾオキサゾール（４）ポジ型パターン形成能改善の検討.
第61回高分子討論会,
名古屋,
2012/09
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9.
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◎小杉充哉, 石井淳一†, 長谷川匡俊†：
低弾性率ポリアゾメチン（２）.
第61回高分子討論会,
名古屋,
2012/09
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10.
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◎小林尚貴, 石井淳一†, 長谷川匡俊†：
低熱膨張・熱可塑性ポリイミド（５）.
第61回高分子討論会,
名古屋,
2012/09
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11.
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◎新藤奈穂美, 石井淳一†, 長谷川匡俊†, 須永友康：
熱可塑性透明ポリイミド（２） 熱・紫外線光安定性.
第61回高分子討論会,
名古屋,
2012/09
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12.
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◎進藤和也, 石井淳一†, 長谷川匡俊†, 本田祐樹, 牛渡剛真, 阿部富也：
高濃度ワニスを与えるポリイミド（５）.
第61回高分子討論会,
名古屋,
2012/09
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13.
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◎石井淳一†, 横塚英征, 森田恵介, 長谷川匡俊†, 須永友康：
超低弾性率ポリイミド（５）フレキシブルプリント回路基板用カバー材への応用.
第61回高分子討論会,
名古屋,
2012/09
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14.
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◎長谷川匡俊†, 桂奈津美, 堀 敦史, 石井淳一†：
ベンゾアゾール環を含むポリイミド（７）低熱膨張性耐熱プラスチック基板への応用.
第61回高分子討論会,
名古屋,
2012/09
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15.
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◎長谷川匡俊†, 石神朋広, 五十嵐嵩史, 石井淳一†：
ポリイミドワニスからのキャスト製膜により誘起される透明ポリイミドの面内配向（１１）電子ペーパー用低熱膨張性透明プラスチック基板への応用.
第61回高分子討論会,
名古屋,
2012/09
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16.
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◎堀 敦史, 石井淳一†, 長谷川匡俊†：
低熱膨張・低吸水性ポリエステルイミド（３９）更なる低弾性率化の方策.
第61回高分子討論会,
名古屋,
2012/09
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17.
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長谷川匡俊†, 本田武俊, 黒川咲季, 進藤和也, ◎石井淳一†：
低熱膨張・低吸水性ポリエステルイミド（４０）副ガラス転移に及ぼす構造因子.
第61回高分子討論会,
名古屋,
2012/09
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18.
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◎横塚英征, 石井淳一†, 長谷川匡俊†：
超低弾性率感光性ポリベンゾオキサゾール(3).
第61回高分子年次大会,
横浜,
2012/05
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19.
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◎小杉充哉, 石井淳一†, 長谷川匡俊†：
低弾性率ポリアゾメチン(1).
第61回高分子年次大会,
横浜,
2012/05
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20.
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◎小林尚貴, 石井淳一†, 長谷川匡俊†：
低線熱膨張・熱可塑性ポリイミド(4).
第61回高分子年次大会,
横浜,
2012/05
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21.
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◎進藤和也, 石井淳一†, 長谷川匡俊†, 阿部富也, 三輪祟夫：
高濃度ワニスを与えるポリイミド(4).
第61回高分子年次大会,
横浜,
2012/05
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22.
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◎石井淳一†, 五十嵐嵩史, 真坂亮介, 長谷川匡俊†：
ポリイミドワニスからのキャスト製膜により誘起される透明ポリイミドの面内配向(10) 膨張性透明プラスチック基板への応用.
第61回高分子年次大会,
横浜,
2012/05
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23.
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◎長谷川匡俊†, 岡崎理絵, 小林尚貴, 石井淳一†：
ポリイミドのZ方向熱膨張制御(1).
第61回高分子年次大会,
横浜,
2012/05
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24.
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◎堀 敦史, 石井淳一†, 長谷川匡俊†：
低熱膨張・低吸水性ポリエステルイミド(38) 更なる低弾性率化の方策.
第61回高分子年次大会,
横浜,
2012/05
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25.
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新藤奈穂美、石井淳一、長谷川匡俊、須永友康：
熱可塑性透明ポリイミド(1) 熱・紫外線光安定性.
第61回高分子年次大会,
横浜,
2012/05
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26.
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◎長谷川匡俊†, 石神朋広, 石井淳一†：
ポリイミドワニスからのキャスト製膜により誘起される透明ポリイミドの面内配向(9) 低熱膨張性透明プラスチック基板への応用.
第61回高分子年次大会,
横浜,
2012/05
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国際学会
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1.
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◎Hasegawa M†, Ishigami T, Ishii J†：
Solution-processable Low-CTE Transparent Heat-resistant Plastic Substrate Materials in Display Devices.
2012 Asia-Pasific Polyimdies and High Performance Polymers Symposium,
Taipei, Taiwan,
2012/11
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2.
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◎Ishii J†, Yokotsuka H, Saito T, Hasegawa M†：
Strategy for Improvement of Non-flammability in Functional Polyimides.
2012 Asia-Pasific Polyimdies and High Performance Polymers Symposium,
Taipei, Taiwan,
2012/11
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3.
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◎Ishii J†, Yokotsuka H, Morita K, Hasegawa M†, Sunaga T：
Ultra-low-modulus Polyimides and Their Applications to Cover Layer Materials in Flexible Printed Circuit Boards.
SAMPE Tech 2012,
Charleston, SC, USA,
2012/10
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